A.設(shè)計(jì)依據(jù)

原水水質(zhì)和工藝用水水質(zhì)要求。

B．原水水源及水質(zhì)

原水水源：見用戶提供的水質(zhì)報(bào)告單，鑒于季節(jié)對(duì)水質(zhì)的很大影響，應(yīng)有一年四季的原水水質(zhì)分析報(bào)告。
C．設(shè)計(jì)規(guī)模

產(chǎn)水量：根據(jù)客戶提供的用水量統(tǒng)計(jì)或要求而定。

D．工藝用水水質(zhì)

滿足相關(guān)藥典質(zhì)量要求的水，如采用RO+EDI的高純水設(shè)備，最終純水質(zhì)量符合新版的歐盟藥典、美國藥典和中國藥典的質(zhì)量要求。

E．公用系統(tǒng)要求

1、原水應(yīng)滿足或處理成飲用水標(biāo)準(zhǔn)，其供給能力大于純水設(shè)備的生產(chǎn)能力；

2、如果系統(tǒng)中配置換熱器進(jìn)行消毒，一般需要3bar以上的工業(yè)蒸汽；

3、用于控制系統(tǒng)的壓縮空氣壓力一般為5.5-8bar，用于預(yù)處理部分反洗的壓縮空氣壓力一般為2bar；

4、不同生產(chǎn)能力的設(shè)備對(duì)電源功率要求不一樣。

F．控制系統(tǒng)

高純水設(shè)備控制系統(tǒng)通常采用PLC自動(dòng)控制和手動(dòng)控制。如果設(shè)備正常運(yùn)行時(shí)采用PLC控制,如果遇到緊急情況或設(shè)備處于非正常工作時(shí)系統(tǒng)可采用手動(dòng)控制?？刂葡到y(tǒng)要監(jiān)控操作參數(shù)如進(jìn)水的PH值、進(jìn)水電導(dǎo)率、進(jìn)水溫度和終端產(chǎn)品質(zhì)量(如PH、電導(dǎo)率和溫度等)，這些參數(shù)用可校驗(yàn)的并可追蹤的儀表來測量，可以用手寫的或電子記錄，包括有紙的或無紙的記錄系統(tǒng)來記錄相關(guān)數(shù)據(jù)。

G．典型的工藝流程

高純水設(shè)備主要的工藝過程可描述為預(yù)處理+脫鹽+后處理。

電鍍是利用化學(xué)和電化學(xué)方法在金屬或在其它材料表面鍍上各種金屬。電鍍技術(shù)廣泛應(yīng)用于機(jī)器制造、輕工、電子等行業(yè)。電鍍污水水質(zhì)較復(fù)雜，電鍍污水中含有鉻、鋅、銅、鎳、鎘等重金屬離子以及酸、堿、氰化物等具有很大毒性的雜物。電鍍污水成分復(fù)雜，污染物可分為無機(jī)污染物和有機(jī)污染物兩大類，水質(zhì)變化幅度大，各股生產(chǎn)污水污染物種類多樣，CODcr變化系數(shù)大;且電鍍污水毒性大，含有大量的重金屬離子，若不經(jīng)處理直接排放會(huì)對(duì)周邊水體造成極大的污染。

關(guān)鍵字：高純水設(shè)備 EDI超純水設(shè)備 超純水設(shè)備 

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